Presupuesto
El objetivo circular de titanio es un objetivo plano con forma de disco-hecho de titanio, que se utiliza habitualmente en aplicaciones como pulverización catódica, recubrimientos o procesos de deposición de materiales. La forma circular garantiza una distribución uniforme del material cuando se utiliza en procesos como la deposición de películas finas-o la implantación de iones.
El objetivo circular de titanio es un material fuente de titanio de alta-pureza y con forma de disco-diseñado para su uso en sistemas de deposición física de vapor (PVD), particularmente en procesos de pulverización catódica con magnetrón. Su geometría circular permite montarlo en cátodos de pulverización catódica planos estándar, donde se bombardea con iones para desalojar los átomos de titanio que posteriormente se depositan como una película delgada sobre los sustratos.
1.Material:
Normalmente están hechos de titanio (Ti) de alta-pureza o aleaciones de titanio como Ti-6Al-4V, y ofrecen una resistencia excelente, baja densidad y alta resistencia a la corrosión.
La pureza puede variar según la aplicación específica; a menudo se utiliza titanio con una pureza del 99,9 % para requisitos de alto-rendimiento.
2.Forma:
Circular: Un disco plano y redondo con un diámetro constante.
Diámetro: Los tamaños comunes varían de 50 mm a 300 mm (2 pulgadas a 12 pulgadas) o más, según las necesidades de la aplicación.
Espesor: El espesor del disco suele ser de 2 mm a 10 mm, aunque puede variar según los requisitos del sistema de pulverización o deposición.
3.Acabado superficial:
La superficie se puede pulir o hacer rugosa dependiendo del resultado deseado del proceso de pulverización o deposición.
Normalmente se prefiere una superficie lisa para una deposición uniforme, mientras que se puede utilizar una superficie rugosa para efectos de recubrimiento específicos.
4.Propiedades:
Alta resistencia a la corrosión ante productos químicos agresivos, especialmente en industrias como la aeroespacial o la marina.
Alto punto de fusión (alrededor de 1668 grados o 3034 grados F), lo que lo hace ideal para procesos de alta-temperatura.
Ligero y resistente, lo que lo hace ideal para la deposición-de películas delgadas donde se requiere un alto grado de precisión.
5.Pureza
Los objetivos de titanio de alta-pureza (más del 99,9 % de pureza) se utilizan a menudo en procesos de pulverización catódica para depositar películas delgadas sobre sustratos en la fabricación de semiconductores, la óptica y otras industrias de precisión.
Los objetivos de titanio de menor pureza se pueden utilizar en otros procesos como la deposición por arco o para fines de recubrimiento general en diversas aplicaciones industriales.
Solicitud
Semiconductores y microelectrónica:
Barreras de difusión y capas de adhesión en estructuras de interconexión de chips.
Electrodos en dispositivos de memoria y sensores.
Metalización de puerta en transistores.
Recubrimientos ópticos y fotovoltaicos:
Recubrimientos protectores y antirreflectantes en lentes
Capas transparentes de óxido conductor (TCO) en células solares de película fina-
Recubrimientos decorativos y funcionales en gafas y lentes de cámaras.
Investigación y desarrollo:
La forma más común para sistemas a escala de laboratorio-debido a la estandarización
Utilizado en laboratorios universitarios e industriales para la investigación de ciencias de materiales.
Creación de prototipos de nuevos revestimientos y dispositivos-de película fina
Recubrimientos para dispositivos médicos:
Recubrimientos biocompatibles sobre implantes e instrumentos quirúrgicos
Capa base para recubrimientos de hidroxiapatita sobre implantes ortopédicos.
Recubrimientos decorativos y funcionales:
Material base para nitruro de titanio (TiN) y otros recubrimientos PVD coloreados
Recubrimientos-resistentes al desgaste en herramientas de corte, moldes y componentes de precisión
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